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 Characteristics of etching residues on the upper sidewall after anisotropic plasma etching of silicon 硅各向异性等离子体刻蚀后上侧壁刻蚀残留物的特性
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期刊：Applied Surface Science 作者：Jaemin Lee; Hyun‐Woo Lee; Kwang‐Ho Kwon 出版日期：2020-03-23 |
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