Characteristics of etching residues on the upper sidewall after anisotropic plasma etching of silicon

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作者
Jaemin Lee,Hyun‐Woo Lee,Kwang‐Ho Kwon
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier]
卷期号:517: 146189-146189 被引量:6
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2020.146189
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