Ordered Arrays of Vertically Aligned [110] Silicon Nanowires by Suppressing the Crystallographically Preferred <100> Etching Directions

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标题	Ordered Arrays of Vertically Aligned [110] Silicon Nanowires by Suppressing the Crystallographically Preferred <100> Etching Directions 通过抑制晶体学上优选的<100>蚀刻方向获得垂直排列的[110]硅纳米线的有序阵列相关领域蚀刻（微加工）材料科学薄脆饼纳米线基质（水族馆）纳米技术金属外延各向同性腐蚀硅制作反应离子刻蚀多孔性干法蚀刻光电子学化学工程复合材料冶金图层（电子）工程类病理地质学海洋学医学替代医学
网址	https://doi.org/10.1021/nl803558n
DOI	10.1021/nl803558n doi
其它	期刊：Nano Letters 作者：Zhipeng Huang; Tomohiro Shimizu; Stephan Senz; Zhang Zhang; Xuanxiong Zhang; et al 出版日期：2009-05-29
求助人	Tao 在 2024-11-12 14:27:02 发布自上海，悬赏 10 积分
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