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 Ultrathin EOT high-κ/metal gate devices for future technologies: Challenges, achievements and perspectives (invited) 面向未来技术的超薄EOT高κ/金属栅极器件：挑战、成就和展望（特邀）
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期刊：Microelectronic engineering 作者：L.-Å. Ragnarsson; T. Chiarella; M. Togo; T. Schram; P. Absil; et al 出版日期：2011-07-01 |
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