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 The effect of photoresist/topcoat properties on defect formation in immersion lithography 光致抗蚀剂/面漆性能对浸没光刻缺陷形成的影响
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Gregory M. Wallraff; Carl E. Larson; Greg Breyta; Linda K. Sundberg; Dolores C. Miller; et al 出版日期：2006-03-10 |
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