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标题
GAN-OPC: Mask Optimization With Lithography-Guided Generative Adversarial Nets
GAN-OPC:光刻引导生成对抗网络的掩模优化
相关领域
计算机科学 平版印刷术 过程(计算) 人工神经网络 光学接近校正 趋同(经济学) 计算机工程 电子工程 人工智能 工程类 材料科学 经济 经济增长 操作系统 光电子学
网址
DOI
10.1109/tcad.2019.2939329 doi
其它 期刊:IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems
作者:Haoyu Yang; Shuhe Li; Zihao Deng; Yuzhe Ma; Bei Yu; et al
出版日期:2020-10-01
求助人
花花猪1989 在 2024-06-17 09:13:14 发布自北京,悬赏 10 积分
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