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标题
Ultra-thin Atomic Layer Deposited HfO2: Tailoring Dielectric Thickness for Low-Operating Voltage Thin-Film Transistors
超薄原子层沉积HfO2：低工作电压薄膜晶体管的电介质厚度定制
相关领域
材料科学 原子层沉积 光电子学 电介质 薄膜 图层（电子） 薄膜晶体管 晶体管 低压 电压 纳米技术 电气工程 工程类
网址
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2024.113923
DOI
10.1016/j.vacuum.2024.113923 doi
其它 期刊：Vacuum
作者：Minyu Chen; Huimin Chen; Eduardo Solano; Danile Hermida Merino; Wenqiang Hua; et al
出版日期：2024-12-01
求助人
锵崽锵崽 在 2025-04-12 11:07:33 发布自福建，悬赏 10 积分
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