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 High-NA EUV mask pattern characterization using advanced mask CD-SEM metrology 使用先进掩模CD-SEM计量的高NA EUV掩模图案表征
相关领域
极紫外光刻
计量学
表征（材料科学）
材料科学
光学
计算机科学
光电子学
纳米技术
物理
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期刊： 作者：Joost Bekaert; Balakumar Baskaran; Lieve Van Look; Joern-Holger Franke; Vicky Philipsen; et al 出版日期：2024-09-18 |
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