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 Improving Device Characteristics of Dual-Gate IGZO Thin-Film Transistors with Ar–O2 Mixed Plasma Treatment and Rapid Thermal Annealing Ar-O2混合等离子体处理和快速热退火改善双栅IGZO薄膜晶体管器件特性
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期刊：Membranes 作者：Wei‐Sheng Liu; Chih‐Hao Hsu; Yu Jiang; Yi-Chun Lai; Hsing‐Chun Kuo 出版日期：2021-12-30 |
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