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 Atomic layer etching of GaN using Cl2 and He or Ar plasma 利用Cl2和He或Ar等离子体原子层刻蚀GaN
相关领域
蚀刻（微加工）
材料科学
等离子体刻蚀
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Simon Ruel; Patricia Pimenta‐Barros; Frédéric Le Roux; Nicolas Chauvet; Michel Massardier; et al 出版日期：2021-02-12 |
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