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标题
[高分] 学位论文 28nm High-K Metal Gate RF CMOS TCAD Calibration
28nm高K金属栅极射频CMOS TCAD校准
相关领域
CMOS芯片 金属浇口 校准 光电子学 材料科学 电子工程 电气工程 工程类 物理 栅氧化层 晶体管 电压 量子力学
网址
AI链接 auburn.edu
DOI
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其它 期刊:
作者:Jiabi Zhang
出版日期:2015-12-10
求助人
研友_Z7XGz8 在 2024-11-28 10:24:35 发布自新加坡,悬赏 100 积分
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