标题 |
[高分] 学位论文 28nm High-K Metal Gate RF CMOS TCAD Calibration
28nm高K金属栅极射频CMOS TCAD校准
相关领域
CMOS芯片
金属浇口
校准
光电子学
材料科学
电子工程
电气工程
工程类
物理
栅氧化层
晶体管
电压
量子力学
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网址 |
AI链接 auburn.edu |
DOI |
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其它 |
期刊: 作者:Jiabi Zhang 出版日期:2015-12-10 |
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