The nature of residues following the ashing of arsenic implanted photoresist

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标题	The nature of residues following the ashing of arsenic implanted photoresist 砷注入光刻胶灰化后残留物的性质相关领域灰化砷残留物（化学）光刻胶材料科学硫酸碳纤维过氧化氢环境化学表征（材料科学）冶金化学纳米技术有机化学复合材料物理图层（电子）量子力学复合数
网址	https://doi.org/10.1557/jmr.1997.0373
DOI	10.1557/jmr.1997.0373 doi
其它	期刊：Journal of Materials Research 作者：Clifton W. Draper; Chuck W. Pearce; Jere T. Glick; M. H. Gordon; Gwen E. Olness; et al 出版日期：1997-10-01
求助人	Chen、Mascot 在 2024-03-13 19:28:14 发布自黑龙江，悬赏 10 积分
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