| 标题 |
[高分]
 Advances in copper CVD for the semiconductor industry 半导体工业中铜CVD的进展
相关领域
铜
铝
材料科学
化学气相沉积
互连
半导体工业
图层（电子）
铜互连
冶金
金属
纳米技术
原子层沉积
半导体
化学工程
光电子学
工程类
制造工程
电信
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal de Physique IV (Proceedings) 作者：John A. T. Norman 出版日期：2001-08-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
薰硝壤
不配.
浅尝离白
Singularity
Henry
shinysparrow
8R60d8
juziyaya
个性的紫菜
xiaxiao
iNk
有人
寻道图强
咖啡豆
HEIKU
竹筏过海
Leonardi
毛豆爸爸
pcr163
肯德鸭
皖公网安备34019202002308
