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Dispersion and Polishing Mechanism of a Novel CeO2-LaOF-Based Chemical Mechanical Polishing Slurry for Quartz Glass
新型CeO2-LaOF基石英玻璃化学机械抛光浆料的分散及抛光机理
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期刊:Materials 作者:Zhao Zhang; Zhenyu Zhang; Chunjing Shi; Junyuan Feng; Xuye Zhuang; et al 出版日期:2023-01-29 |
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