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标题
Effects of carbon nanoparticle insertion on stress reduction in hydrogenated amorphous carbon films using plasma chemical vapor deposition
碳纳米粒子插入对等离子体化学气相沉积氢化非晶碳膜应力降低的影响
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网址
https://doi.org/10.1016/j.diamond.2024.111654
DOI
10.1016/j.diamond.2024.111654 doi
其它 期刊：Diamond and Related Materials
作者：Shinjiro Ono; Sung-Hwa Hwang; Takamasa Okumura; Naoto Yamashita; Kunihiro Kamataki; et al
出版日期：2024-10-11
求助人
leo_twli 在 2024-12-20 14:16:04 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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