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标题
Atomic layer etching in HBr/He/Ar/O2 plasmas
ZR/He/Arr/O2等离子体中的原子层腐蚀
相关领域
等离子体 蚀刻（微加工） 图层（电子） 原子物理学 材料科学 纳米技术 物理 量子力学
网址
https://doi.org/10.1116/6.0003593
DOI
10.1116/6.0003593 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者：Qinzhen Hao; Mahmoud A. I. Elgarhy; Pilbum Kim; Sang Ki Nam; Song-Yun Kang; et al
出版日期：2024-05-06
求助人
调研昵称 在 2024-11-20 15:49:32 发布自印度，悬赏 10 积分
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