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Prediction of Surface Roughness as a Function of Temperature for SiO2 Thin-Film in PECVD Process
PECVD工艺中SiO2薄膜表面粗糙度随温度变化的预测
相关领域
等离子体增强化学气相沉积
表面粗糙度
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期刊:Micromachines 作者:Muhammad Rizwan Amirzada; Yousuf Khan; Muhammad Khurram Ehsan; Atiq Ur Rehman; Abdul Aleem Jamali; et al 出版日期:2022-02-17 |
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