High-NA EUV single patterning of advanced metal logic nodes: inverse lithography techniques in combination with alternative mask absorbers

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标题	High-NA EUV single patterning of advanced metal logic nodes: inverse lithography techniques in combination with alternative mask absorbers 先进金属逻辑节点的高NA EUV单图案化：结合替代掩模吸收器的反向光刻技术相关领域极紫外光刻平版印刷术材料科学多重图案光刻下一代光刻纳米技术反向计算光刻计算机科学光电子学抵抗电子束光刻数学几何学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.3031718
DOI	10.1117/12.3031718 doi
其它	期刊：作者：Ana-Maria Armeanu; Nick Pellens; Vicky Philipsen; E. Malankin; Dongbo Xu; et al 出版日期：2024-09-18
求助人	小张真的困啦在 2024-11-15 09:26:35 发布自中国，悬赏 20 积分
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