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Effect of Pulsed Substrate Bias on Film Properties of SiO2 Deposited by Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition
脉冲衬底偏压对电感耦合等离子体化学气相沉积SiO2薄膜性能的影响
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网址
https://doi.org/10.1143/jjap.49.03ca03
DOI
10.1143/jjap.49.03ca03 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Takahiro Hiramatsu; Tokiyoshi Matsuda; Hiroshi Furuta; Hiroshi Nitta; Toshiyuki Kawaharamura; et al
出版日期：2010-03-01
求助人
Caboda 在 2025-03-13 14:07:33 发布自安徽，悬赏 10 积分
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