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标题
Native oxide removal on Si surface by NF 3 -added hydrogen plasma downstream treatment
通过添加NF3的氢等离子体下游处理去除Si表面的天然氧化物
相关领域
氧化物 氢 氟 材料科学 等离子体 硅 分析化学（期刊） 等离子清洗 化学 光电子学 冶金 色谱法 量子力学 物理 有机化学
网址
https://doi.org/10.1117/12.167335
DOI
10.1117/12.167335 doi
其它 期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE
作者：Jun Kikuchi; Masao Iga; Shuzo Fujimura; Hiroshi Yano
出版日期：1994-02-15
求助人
Gavin 在 2024-12-18 15:41:03 发布自福建，悬赏 20 积分
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