Chemical interaction of NF3 ion beams and plasmas with Si (Part I): X-ray photoelectron spectroscopy studies

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标题	Chemical interaction of NF3 ion beams and plasmas with Si (Part I): X-ray photoelectron spectroscopy studies NF3离子束和等离子体与硅的化学相互作用（上）：X射线光电子能谱研究相关领域 X射线光电子能谱电负性化学离子离子束等离子体硅分析化学（期刊）原子物理学离子束沉积电离结合能核磁共振有机化学物理量子力学色谱法
网址	https://doi.org/10.1016/s0039-6028(99)01061-4
DOI	10.1016/s0039-6028(99)01061-4 doi
其它	期刊：Surface Science 作者：Thomas W. Little; Fumio S. Ohuchi 出版日期：2000-01-01
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