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标题
Contribution of Ion Energy and Flux on High-Aspect Ratio SiO2 Etching Characteristics in a Dual-Frequency Capacitively Coupled Ar/C4F8 Plasma: Individual Ion Energy and Flux Controlled
离子能量和通量对双频电容耦合Ar/C4F8等离子体中高纵横比SiO2刻蚀特性的贡献：单个离子能量和通量控制
相关领域
电子 原子物理学 等离子体 离子 物理 蚀刻（微加工） 电子密度 材料科学 纳米技术 图层（电子） 量子力学
网址
http://dx.doi.org/10.1063/5.0126786
AI链接 figshare.com figshare.comdoi.org
DOI
10.1063/5.0126786 doi
求助人
biliobili 在 2025-01-18 11:36:38 发布自上海，悬赏 10 积分
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