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 Improving quality of AlN films on GaAs substrate via in-situ plasma pre-treatment in plasma enhanced atomic layer deposition 等离子体增强原子层沉积中原位等离子体预处理提高GaAs衬底上AlN薄膜的质量
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材料科学
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期刊：Materials Letters 作者：Hongyu Qiu; Jin Yang; Peng Qiu; Xiaoli Zhu; Heng Liu; et al 出版日期：2024-05-18 |
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