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[高分]
 On the Etching Characteristics and Mechanisms of HfO<SUB>2</SUB> Thin Films in CF<SUB>4</SUB>/O<SUB>2</SUB>/Ar and CHF<SUB>3</SUB>/O<SUB>2</SUB>/Ar Plasma for Nano-Devices 纳米器件用CF4/O2/Ar和CHF3/O2/Ar等离子体中HfO薄膜的刻蚀特性及机理
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期刊：Journal of Nanoscience and Nanotechnology 作者：Nomin Lim; Alexander Efremov; Geun Young Yeom; Kwang-Ho Kwon 出版日期：2014-12-01 |
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