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标题
Charge carrier lifetime degradation in Cz silicon through the formation of a boron-rich layer during BBr3diffusion processes
在BBr3扩散过程中形成富硼层导致直拉硅中载流子寿命的退化
相关领域
硼 降级（电信） 硅 扩散 图层（电子） 载流子 材料科学 化学工程 载流子寿命 化学 光电子学 纳米技术 电气工程 热力学 物理 有机化学 工程类
网址
https://doi.org/10.1088/0268-1242/25/5/055001
DOI
10.1088/0268-1242/25/5/055001 doi
其它 期刊：Semiconductor Science and Technology
作者：M. Kessler; Tobias Ohrdes; Bettina Wolpensinger; Nils‐Peter Harder
出版日期：2010-04-06
求助人
Damiao 在 2025-02-13 14:55:46 发布自江苏，悬赏 10 积分
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