Highly Robust Advanced Single Precursor Based k 2.4 ILD for Beol Cu Interconnects

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标题	Highly Robust Advanced Single Precursor Based k 2.4 ILD for Beol Cu Interconnects 用于Beol Cu互连的高鲁棒先进单前驱体k 2.4 ILD 相关领域电容材料科学互连电介质还原（数学）节点（物理）光电子学复合材料化学工程电极计算机科学化学几何学数学结构工程工程类计算机网络物理化学
网址	https://doi.org/10.1149/ma2015-02/18/824
DOI	10.1149/ma2015-02/18/824 doi
其它	期刊：Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM) 作者：Deepika Priyadarshini; S. Nguyen; H. Shobha; E. Todd Ryan; S. M. Gates; et al 出版日期：2015-07-07
求助人	thuck 在 2024-05-30 17:43:26 发布自上海，悬赏 10 积分
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