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 Trivalent lanthanum and ytterbium doped meso-silica/ceria abrasive systems toward chemical mechanical polishing (CMP) and ultraviolet irradiation-assisted photochemical mechanical polishing (PCMP) 用于化学机械抛光(CMP)和紫外辐射辅助光化学机械抛光(PCMP)的三价镧和镱掺杂介观二氧化硅/氧化铈磨料体系
相关领域
化学机械平面化
材料科学
抛光
扫描电子显微镜
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复合材料
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磨料
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期刊：Applied Surface Science 作者：Zihan Kou; Chao Wang; Wenjin Zhou; Ailian Chen; Yang Chen 出版日期：2024-02-20 |
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