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标题
The Process Challenge and Optimization of Self-Aligned Contact Etch
自对准接触刻蚀的工艺挑战与优化
相关领域
材料科学 晶体管 浅沟隔离 光刻 沟槽 光电子学 进程窗口 多重图案 纳米技术 计算机科学 图层（电子） 电气工程 平版印刷术 工程类 抵抗 电压
网址
https://doi.org/10.1149/ma2020-02141381mtgabs
DOI
10.1149/ma2020-02141381mtgabs doi
其它 期刊：Meeting abstracts
作者：Erhu Zheng; Zhuofan Chen; Haiyang Zhang
出版日期：2020-11-23
求助人
Mr_龙在天涯 在 2025-03-21 09:34:38 发布自新加坡，悬赏 10 积分
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