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标题
Advances in Quantum Dot Direct Photolithographic Patterning
量子点直接光刻图形的研究进展
相关领域
量子点 光刻 纳米技术 光电子学 多重图案 材料科学 抵抗 图层(电子)
网址
DOI
10.1021/acsmaterialslett.4c00762 doi
其它 期刊:ACS materials letters
作者:Yanyan Qiu; Yixin Yu; Shanshan Wang; Menglu Chen
出版日期:2024-06-21
求助人
付艳 在 2025-03-17 19:26:28 发布自广东,悬赏 10 积分
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