Porosity in low dielectric constant SiOCH films depth profiled by positron annihilation spectroscopy

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标题	Porosity in low dielectric constant SiOCH films depth profiled by positron annihilation spectroscopy 低介电常数SiOCH薄膜孔隙率的正电子湮没谱深度分析相关领域正电子湮没谱学电介质材料科学多孔性分析化学（期刊）弹性后坐力检测 X射线光电子能谱化学气相沉积正电子退火（玻璃）光谱学薄膜化学复合材料核磁共振正电子湮没纳米技术核物理学物理光电子学色谱法量子力学电子
网址	https://doi.org/10.1063/1.1644925
DOI	10.1063/1.1644925 doi
其它	期刊：Journal of applied physics 作者：R. S. Brusa; M. Spagolla; Grzegorz P. Karwasz; Antonio Zecca; G. Ottaviani; et al 出版日期：2004-02-19
求助人	A_lex 在 2024-04-09 14:19:45 发布自湖北，悬赏 10 积分
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