New Chemically Amplified Positive Photoresist with Phenolic Resin Modified by GMA and BOC Protection

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标题	New Chemically Amplified Positive Photoresist with Phenolic Resin Modified by GMA and BOC Protection GMA和BOC保护改性酚醛树脂的新型化学放大正性光致抗蚀剂相关领域光刻胶抵抗傅里叶变换红外光谱甲基丙烯酸缩水甘油酯凝胶渗透色谱法苯酚紫外线甲基丙烯酸酯试剂材料科学化学核化学高分子化学化学工程聚合物有机化学聚合光电子学图层（电子）工程类
网址	https://www.mdpi.com/2073-4360/15/7/1598/pdf?version=1679563...
DOI	10.3390/polym15071598 doi
其它	期刊：Polymers 作者：Junjun Liu; Wenbing Kang 出版日期：2023-03-23
求助人	王小壮在 2024-08-15 14:45:02 发布自山东，悬赏 10 积分
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