Analysis of deprotection reaction for chemically amplified resists by using FT-IR spectrometer with exposure tool

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标题	Analysis of deprotection reaction for chemically amplified resists by using FT-IR spectrometer with exposure tool 带曝光工具的FT-IR光谱仪分析化学放大抗蚀剂的脱保护反应相关领域抵抗活化能共聚物平版印刷术材料科学傅里叶变换红外光谱聚合物光刻胶光化学化学高分子化学纳米技术化学工程有机化学光电子学复合材料工程类图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.436825
DOI	10.1117/12.436825 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Yasuhiro Miyake; Mariko Isono; Atsushi Sekiguchi 出版日期：2001-08-24
求助人	虚心盼夏在 2025-02-06 18:51:42 发布自上海，悬赏 20 积分
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