标题 |
N-Doping of plasma exfoliated graphene oxide via dielectric barrier discharge plasma treatment for the oxygen reduction reaction
用于氧还原反应的介质阻挡放电等离子体处理等离子体剥离氧化石墨烯的N掺杂
相关领域
等离子体
化学工程
X射线光电子能谱
等离子体处理
分析化学(期刊)
电极
非热等离子体
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期刊:Journal of Materials Chemistry 作者:Yiqing Wang; Feng Yu; Mingyuan Zhu; Cunhua Ma; Dan Zhao; et al 出版日期:2018-01-30 |
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