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Atomic Layer Deposition of Copper Seed Layers from a (hfac)Cu(VTMOS) Precursor
(hfac)Cu(VTMOS)前驱体中铜种子层的原子层沉积
相关领域
铜
原子层沉积
材料科学
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沉积(地质)
化学工程
冶金
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沉积物
工程类
古生物学
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期刊:Journal of the Korean Physical Society 作者:Dae-Yong Moon; Woong-Sung Kim; Tae-Sub Kim; Byung-Woo Kang; Jong-Wan Park; et al 出版日期:2009-03-14 |
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