标题 |
Catalytic Chemical Sputtering: A Novel Method for Obtaining Large-Grain Polycrystalline Silicon
催化化学溅射:一种获得大晶粒多晶硅的新方法
相关领域
二硅烷
硅
催化作用
基质(水族馆)
硅烷
钨
多晶硅
材料科学
溅射
化学工程
氢
微晶
纳米晶硅
开裂
无机化学
薄膜
晶体硅
化学
冶金
纳米技术
复合材料
有机化学
图层(电子)
薄膜晶体管
海洋学
非晶硅
工程类
地质学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Hideki Matsumura; Koji Kamesaki; Atsushi Masuda; Akira Izumi 出版日期:2001-03-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|