Determination of Stress in Films on Single Crystalline Silicon Substrates

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标题	Determination of Stress in Films on Single Crystalline Silicon Substrates 单晶硅衬底薄膜应力的测定相关领域材料科学薄脆饼曲率偏转（物理）硅基质（水族馆）薄膜压力（语言学）复合材料光学光学显微镜光电子学纳米技术扫描电子显微镜几何学物理海洋学地质学哲学语言学数学
网址	https://doi.org/10.1063/1.1719333
DOI	10.1063/1.1719333 doi
其它	期刊：Review of Scientific Instruments 作者：R. Glang; R. A. Holmwood; R. Rosenfeld 出版日期：1965-01-01
求助人	王永在 2024-03-04 11:56:02 发布自天津，悬赏 10 积分
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