Accurate lithography simulation model based on convolutional neural networks

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标题	Accurate lithography simulation model based on convolutional neural networks 基于卷积神经网络的光刻精确仿真模型相关领域抵抗计算机科学卷积神经网络平版印刷术半导体器件制造过程（计算）半导体器件建模功能（生物学）激活函数深度学习计算光刻人工智能人工神经网络算法电子工程 X射线光刻光学 CMOS芯片纳米技术材料科学图层（电子）薄脆饼工程类物理操作系统生物进化生物学
网址	https://doi.org/10.1117/12.2257871
DOI	10.1117/12.2257871 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Yuki Watanabe; Taiki Kimura; Tetsuaki Matsunawa; Shigeki Nojima 出版日期：2017-03-30
求助人	铁妹儿在 2024-07-03 09:52:28 发布自重庆，悬赏 20 积分
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