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Enhancing ferroelectricity in HfAlOx-based ferroelectric tunnel junctions: A comparative study of MFS and MFIS structures with ultrathin interfacial layers
增强HfAlOx基铁电隧道结的铁电性:具有超薄界面层的MFS和MFIS结构的比较研究
相关领域
材料科学
铁电性
半导体
绝缘体(电)
泄漏(经济)
极化(电化学)
工程物理
纳米技术
光电子学
电介质
化学
物理化学
工程类
经济
宏观经济学
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其它 |
期刊:Ceramics International 作者:Yongjin Park; Woo-Hyun Park; Sungjun Kim 出版日期:2024-05-01 |
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