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 PECVD technology deposition of high hardness a-C:H films on micro-drill surfaces: Substrate bias voltage effects 微钻表面高硬度a-C：H薄膜的PECVD沉积：衬底偏压效应
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材料科学
等离子体增强化学气相沉积
基质（水族馆）
偏压
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沉积（地质）
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期刊：Journal of Manufacturing Processes 作者：Beibei Ren; Yifan Su; Jia Lou; Cheng Zhang; Peng Tang; et al 出版日期：2024-06-17 |
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