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 Ferroelectricity Engineered AlScN Thin Films Prepared by Hydrogen Included Reactive Sputtering for Analog Applications 用于模拟应用的氢反应溅射制备铁电性工程AlScN薄膜
相关领域
溅射
铁电性
材料科学
薄膜
氢
光电子学
纳米技术
化学
电介质
有机化学
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| 其它 |
期刊： 作者：Si-Meng Chen; Hirofumi Nishida; Takuya Hoshii; Kazuo Tsutsui; Hitoshi Wakabayashi; et al 出版日期：2024-06-15 |
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