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The progress and challenges of threshold voltage control of high-k/metal-gated devices for advanced technologies (Invited Paper)
面向先进技术的高k/金属栅器件阈值电压控制的进展与挑战(特邀论文)
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期刊:Microelectronic Engineering 作者:Hsing‐Huang Tseng; Paul Kirsch; C.S. Park; G. Bersuker; Prashant Majhi; et al 出版日期:2009-03-20 |
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