| 标题 |
 Development of Spin-on Carbon Materials with High Planarization Performance for Multilayer Resist Process 用于多层抗蚀剂工艺的高平坦化性能旋涂碳材料的研制
相关领域
化学机械平面化
抵抗
材料科学
平版印刷术
聚合物
蚀刻（微加工）
图层（电子）
旋涂
热稳定性
溶剂
涂层
光刻
纳米技术
化学工程
复合材料
光电子学
化学
有机化学
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊： 作者：Keisuke Kawashima; Koji Inoue; Kenichi Fujii; Takashi Oda; Kazuo Kohmura 出版日期：2020-10-05 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
带头大哥
嗯哼
rosalieshi
shinysparrow
坚强的广山
薰硝壤
Singularity
iNk
寻道图强
HEIKU
Frank
不配.
热心市民小红花
art888
SinU
pluto
谨慎的映寒
宜醉宜游宜睡
Cloud
tuanheqi
皖公网安备34019202002308
