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Low-temperature SiON films deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition method using activated silicon precursor
活化硅前驱体等离子体增强原子层沉积法制备低温SiON薄膜
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期刊:Journal of vacuum science & technology 作者:Sungin Suh; Seung Wook Ryu; Seongjae Cho; Jun-Rae Kim; Seongkyung Kim; et al 出版日期:2016-01-01 |
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