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SiO2 Tapered Etching Employing Magnetron Discharge of Fluorocarbon Gas
碳氟气体磁控放电SiO2锥形刻蚀
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期刊:Japanese journal of applied physics 作者:Tokuhisa Ohiwa; Keiji Horioka; T. Arikado; Isahiro Hasegawa; H. Okano 出版日期:1992-02-01 |
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