| 标题 |
 A review on recent advances of chemical vapor deposition technique for monolayer transition metal dichalcogenides (MX2: Mo, W; S, Se, Te) 单层过渡金属二硫族化物（MX2：Mo，W；S，Se，Te）化学气相沉积技术研究进展
相关领域
纳米棒
材料科学
氮氧化物
选择性
热液循环
润湿
再现性
工作温度
纳米结构
化学工程
原位
纳米技术
复合材料
催化作用
色谱法
燃烧
有机化学
工程类
物理
化学
热力学
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| DOI |
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10.1016/j.mssp.2022.106522
Doi
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| 其它 |
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Fikret Gonca Aras; Alp Yilmaz; H. Gunalp Tasdelen; Ayberk Özden; Feridun Ay; et al 出版日期：2022-05-30 |
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