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标题
Comprehensive evaluation of gate-induced drain leakage in SOI stacked nanowire nMOSFETs operating in high-temperatures
高温下SOI堆叠纳米线NMOSFET栅极诱导漏极泄漏的综合评价
相关领域
纳米线 材料科学 泄漏（经济） 量子隧道 光电子学 绝缘体上的硅 导带 晶体管 阈值电压 排水诱导屏障降低 MOSFET 电压 电气工程 硅 电子 物理 经济 宏观经济学 工程类 量子力学
网址
https://doi.org/10.1016/j.sse.2024.108865
DOI
10.1016/j.sse.2024.108865 doi
其它 期刊：Solid-State Electronics
作者：Michelly de Souza; A. Cerdeira; M. Estrada; M. Cassé; Sylvain Barraud; et al
出版日期：2024-04-01
求助人
Et3rnity 在 2024-09-12 13:44:43 发布自安徽，悬赏 10 积分
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