Exploring the Morphotropic Phase Boundary in HfO2‐Based Ferroelectrics for Advanced High‐k Dielectrics

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标题	Exploring the Morphotropic Phase Boundary in HfO2‐Based Ferroelectrics for Advanced High‐k Dielectrics 用于先进高k电介质的HfO2基铁电体的形态向相界探索相关领域德拉姆电介质高-κ电介质动态随机存取存储器材料科学电容器工程物理相界通用存储器纳米技术计算机科学光电子学相（物质）电气工程物理工程类计算机存储器半导体存储器计算机硬件内存刷新量子力学电压
网址	https://doi.org/10.1002/admt.202401041
DOI	10.1002/admt.202401041 doi
其它	期刊：Advanced Materials Technologies 作者：Seungyeol Oh; Hojung Jang; Mostafa Habibi; Minchul Sung; Hyejung Choi; et al 出版日期：2024-12-23
求助人	陈陈在 2025-01-02 17:52:09 发布自湖北，悬赏 10 积分
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