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 Investigation of Optimum Deposition Conditions of Radio Frequency Reactive Magnetron Sputtering of Al0.7Sc0.3N Film with Thickness down to 20 nm 射频反应磁控溅射20nm以下Al0.7Sc 0.3 N薄膜最佳沉积条件的研究
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期刊：Advanced electronic materials 作者：Seung Kyu Ryoo; Kyung Do Kim; Hyeon Woo Park; Yong Bin Lee; Suk Hyun Lee; et al 出版日期：2022-09-02 |
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