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标题
New development of atomic layer deposition: processes, methods and applications
原子层沉积的新进展:工艺、方法和应用
相关领域
原子层沉积 微电子 纳米技术 沉积(地质) 材料科学 计算机科学 薄膜 工程物理 工程类 沉积物 生物 古生物学
网址
DOI
10.1080/14686996.2019.1599694 doi
其它 期刊:Science and Technology of Advanced Materials
作者:Peter Ozaveshe Oviroh; Rokhsareh Akbarzadeh; Dongqing Pan; Rigardt Alfred Maarten Coetzee; Tien‐Chien Jen
出版日期:2019-05-23
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tsy 在 2024-11-26 14:28:24 发布自湖北,悬赏 30 积分
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