Novolac design for high-resolution positive photoresist (III): a selection principle of phenolic compounds for novolac resins

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标题	Novolac design for high-resolution positive photoresist (III): a selection principle of phenolic compounds for novolac resins 用于高分辨率正性光刻胶的酚醛清漆设计(III)：酚醛清漆树脂用酚类化合物的选择原则相关领域光刻胶苯酚溶解抵抗共聚物材料科学聚合物高分辨率化学工程化学有机化学复合材料图层（电子）遥感地质学工程类
网址	https://doi.org/10.1117/12.20102
DOI	10.1117/12.20102 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Makoto Hanabata; Akihiro Furuta 出版日期：1990-06-01
求助人	虚心盼夏在 2025-02-12 19:13:42 发布自上海，悬赏 20 积分
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